產(chǎn)品介紹
電子、半導(dǎo)體、液晶顯示、光伏工業(yè)生產(chǎn)在制作過(guò)程中，往往需要使用極其純凈的超純水。如果純水水質(zhì)達(dá)不到生產(chǎn)工藝用水的要求或者水質(zhì)不穩(wěn)定的話(huà)，會(huì)影響到后續(xù)工藝的處理效果和使用壽命。
電子行業(yè)超純水設(shè)備是采用預(yù)處理、二級(jí)反滲透技術(shù)、超純化處理以及后級(jí)處理等方法，將水中的導(dǎo)電介質(zhì)幾乎完全去除，又將水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體及有機(jī)物均去除至很低程度的水處理設(shè)備;是電子廠生產(chǎn)用超純水制備不可缺少的裝置。
應(yīng)用范圍：
1、半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路成品、半成品用超純水;
2、超純材料和超純化學(xué)試劑勾兌用超純水;
3、實(shí)驗(yàn)室和中試車(chē)間用超純水;
4、汽車(chē)、家電表面拋光處理;
5、光電子產(chǎn)品;
工藝設(shè)計(jì)
電子行業(yè)超純水設(shè)備工藝流程：
原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→軟水器→精密過(guò)濾器→一級(jí)反滲透主機(jī)→中間水箱→中間水泵→EDI系統(tǒng)→微孔過(guò)濾器→用水點(diǎn)
設(shè)備特點(diǎn)
電子行業(yè)EDI超純水模塊（電除鹽）的優(yōu)點(diǎn)
1、不需要酸堿再生：電除鹽的操作安全的，廢水的處理變得簡(jiǎn)單了。
2、可連續(xù)生產(chǎn)：電除鹽的生產(chǎn)是連續(xù)的，免除了使用混床過(guò)程中復(fù)雜的再生操作，減少了很多備用設(shè)備。
3、不需要處理廢酸堿：沒(méi)有廢酸堿的中和排放處理系統(tǒng)。電除鹽的濃水可以直接排放或返回到RO的進(jìn)口（EDI中濃水量比純水少得多）。
4、安裝條件簡(jiǎn)單：電除鹽在安裝時(shí)，占地面積小，大部分標(biāo)準(zhǔn)廠房都能滿(mǎn)足，對(duì)于較低的廠房，可以通過(guò)對(duì)電除鹽模塊的水平配置解決。
5、運(yùn)行成本低：電除鹽系統(tǒng)與各種混床相比，在價(jià)格上有競(jìng)爭(zhēng)性。
6、水質(zhì)穩(wěn)定：電除鹽的出水質(zhì)量穩(wěn)定有把握。不會(huì)有普通混床那樣的水質(zhì)變化。
技術(shù)參數(shù)
1、給水：RO純水，一般水的電導(dǎo)率為4-30us/cm。
2、PH：5.0-8.0(在此PH條件下，水硬度不能太高)
3、溫度：5-35℃
4、進(jìn)水壓力：最大為4kg/cm2(60psi)，最小為1.5kg/cm2(25psi)。
5、出水電阻率：1Ω·m~18.2Ω·m（常溫下20°C
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